Лавинно-пролётный диод - полупроводниковый диод, обладающий отрицательным дифференциальным сопротивлением в СВЧ-диапазоне вследствие развития т. н. лавинно-пролётной неустойчивости.
Последняя обусловлена ударной ионизацией и дрейфом носителей заряда в р-n-переходе
в режиме обратного смещения (см. р-п-переход). Идея, лежащая в основе
работы Л--п. д., сформулирована в 1958 У. Т. Ридом (W. Т. Read). Генерация на
Л--п. д. впервые наблюдалась в СССР в 1959 А. С. Тагером с сотрудниками [1].
Физ. принцип работы Л--п. д. можно пояснить на примере диода Рида (рис. 1).
Диод состоит из сильно легированного р+ -эмиттера и неоднородно
легированной n-базы (рис. 1, а). Узкий слой n-базы вблизи р-п-перехода
легирован сильно (n+-слой), остальная часть базы легирована
слабо (n--слой). Распределение поля в такой структуре для
обратного напряжения (U0, большего, чем напряжение пробоя
Ui, показано на рис. 1 (б). При этом напряжённость
поля в области р-n-перехода превышает поле ударной ионизации Ei
и вблизи р-n-перехода генерируются электроннодырочные пары (область
умножения). Дырки быстро пролетают к электроду сквозь узкий сильно легированный
эмиттер, не оказывая существенного влияния на работу прибора. Электроны, покинув
область умножения, пролетают затем протяжённую слабо легированную п--область
(область дрейфа).
В области умножения и в
области дрейфа электроны движутся с одной и той же, не зависящей от напряжённости
поля дрейфовой скоростью - скоростью насыщения [2].
Значение поля Es, при к-ром дрейфовая скорость электронов
насыщается, составляет для электронов в Si и GaAs величину 104
В/см, значительно меньшую значения поля в области умножения Еi
(3-5) 105 В/см. Характерное значение 107
см/с.
Пусть помимо пост. напряжения
U0 к диоду приложено перем. напряжение U частотой
(рис. 2, а). С ростом напряжения U происходит резкое увеличение концентрации
носителей в области умножения вследствие экспоненциального характера зависимости
коэф. ударной ионизации от поля [2]. Однако т. к. скорость роста концентрации
электронов
пропорц. уже имеющейся в области умножения концентрации п, момент, когда
п достигает максимума, запаздывает по отношению к моменту, когда максимума
достигает напряжение на диоде (рис. 2, б). В условиях, когда vs
не зависит от поля, ток проводимости в области умножения Iс
пропорц. концентрации п:
S(e - заряд электрона, S - площадь диода). Поэтому кривая на рис.
2 (б) представляет собой также и зависимость тока IС в области
умножения от времени.
Когда напряжение на диоде
спадает и концентрация носителей в области умножения резко уменьшается, ток
на электродах прибора I (полный ток) остаётся постоянным (рис. 2, в).
Сформировавшийся в области умножения сгусток электронов движется через область
дрейфа с пост. скоростью.
Пока сгусток электронов не уйдёт в контакт, ток через диод остаётся постоянным
(теорема Рамо - Шокли) [3]. Из сравнения рис. 2, а и 2, в видно, что ток, протекающий
через Л--п. д., колеблется практически в противофаэе с напряжением, т. е. имеет
место отрицат. дифференциальное сопротивление.
Отрицат, дифференциальное
сопротивление Л--п. д. является частотно-зависимым. Время пролёта носителей
через область дрейфа
, где L -длина области дрейфа, практически равная полной длине диода.
Сдвиг фаз между током и напряжением п может быть реализован только на частоте
(и на гармониках). Более точный расчёт устанавливает соотношение между
и L:
Механизм возникновения
отрицат. дифференциального сопротивления является малосигнальным: колебания
спонтанно нарастают в резонаторе, настроенном на соответствующую частоту ,
при подаче на диод достаточно большого пост. смещения.
Наиб. мощные и эффективные
Л--п. д., предназначенные для работы в сантиметровом диапазоне и длинноволновой
части миллиметрового диапазона длин волн, изготавливаются из GaAs, а для работы
на более высоких частотах - из Si. Перспективно использование InP и др. соединений
типа АIII BV , а также гетероструктур и сверхрешёток.
Для создания Л--п. д. используются
диффузия и ионная имплантация примесей, эпитаксиальное наращивание (см.
Эпитаксия ),напыление металла в вакууме.
Л--п. д.- наиб. мощный полупроводниковый прибор для генерации и усиления эл--магн. колебаний на частотах до 400 ГГц. Л.- п. д. из GaAs на частоте 6 ГГц в непрерывном режиме обеспечивают выходную мощность Р=15 Вт при 30%; на частоте 40 ГГц Р 2 Вт при 20%. Кремниевые Л--п. д. позволяют получить Р1 Вт на частоте 100 ГГц и 50 мВт на частоте 200 ГГц и 2 мВт на частоте 440 ГГц.
М. Е. Левинштейн, Г. С. Симин