Гетеролазер - полупроводниковый
лазер на основе гетероструктур. Наиб. распространены инжекционные Г., в
к-рых активной средой является узкозонный слой гетероструктуры. Это полупроводник
(гл. обр. AIIIBV) с высоким квантовым выходом излучат.
рекомбинации. Спектральный диапазон излучения Г. определяется
узкозонного полупроводника.
В инжекционных лазерах с р-n-переходом в прозрачном полупроводнике световое поле генерации
проникает далеко за пределы активного слоя в области с высоким для него коэф.
поглощения. Толщина активного слоя меньше области рекомбинации неравновесных
ин-жектир. носителей заряда (рис. 1, а). Это определяет большие потери энергии,
высокую пороговую плотность тока и низкий кпд при темп-pax T300К.
В Г. вследствие оптического и электронного ограничений можно управлять областью
локализации светового поля и неравновесной электронно-дырочной плазмы. В Г.
с односторонней гетероструктурой (ОГС-лазер, рис. 1, б) на расстоянии
d от инжектирующего р-n-перехода создаётся потенц. барьер
за счёт гетероперехода с более широкозонным полупроводником. Если скорость
рекомбинации на гетерогранице мала (что обычно имеет место при совпадении параметров
кристаллич. решёток полупроводников), то носители отражаются от барьера и увеличивают
при том же токе ср. концентрацию неосновных носителей в области усиления. Тем
самым инверсная населённость в активном слое, возникающая при определ. концентрации
инжектир. носителей, достигается при меньшем значении плотности тока. Скачок
показателя преломления на границе одновременно приводит к уменьшению проникновения
светового поля в поглощающую р-область. Уменьшение рекомбинац. и оптич.
потерь снижает ток,
необходимый для возбуждения генерации.
Рис. 1. Зонные диаграммы
полупроводниковой структуры (1), концентрация электронов п и дырок
р(2), амплитуда светового поля
и коэф. усиления g (3): а - в лазере с р - n-переходом; б - в
гетеролазере с 1 гетеропереходом (с односторонним ограничением); в - в
гетеролазере с двойной гетероструктурой (с двусторонним ограничением).
Наилучшими параметрами
обладает Г. на основе трёхслойной (двойной) гетероструктуры (ДГС) с активным
слоем из узкозонного полупроводника, заключённым между 2 широкозонными (ДГС-лазеры,
рис. 1, в). Двустороннее оптическое и электронное ограничение приводит
к совпадению области инверсной населённости и светового поля, что позволяет
получить генерацию при малом токе накачки. Использование для инжекции носителей
гетероперехода позволяет осуществить сверхинжекцию для достижения достаточно
большой инверсии населённости в активном слое.
Неравновесные носители
можно локализовать в значительно меньшей области, чем световое поле. Так, в
ДГС-лазерах толщину d узкозонного активного слоя удаётся довести до размеров
длины волны де Бройля электрона с кинетич. энергией, близкой к высоте
потенц. барьера на границах (d~6-8 нм). Ширина активного слоя такого Г. порядка
длины волны генерируемого излучения и контролируется независимо изменением показателя
преломления п среды. T. о., Г. можно рассматривать как планарный оптич.
волновод со встроенным в него активным усиливающим слоем. Волновод образован
за счёт изменения п в плоскости, перпендикулярной гетеропереходу, а локализация
электронно-дырочной плазмы в слое заданной толщины обеспечена
потенц. барьерами на границе этого слоя с более широкозонным полупроводником.
Рис. 2. Гетеролазер с резонатором Фабри-Перо, образованный сколотыми гранями полупроводникового кристалла: {110} - плоскости естественного скола, перпендикулярные активному слою, ориентированному в плоскости {100}.
Рис. 3. Схема двух полосковых гетеролазеров с распределённым брэгговским отражением. Локализация протекания тока в узких полосках достигается за счёт высокого электрического сопротивления областей, подвергнутых ионной имплантации; световое поле локализовано в составном волноводе, образованном слоями а неравновесные носители локализованы в слое P=GaAs,- шаг дифракционной решётки.
Зеркалами Г. обычно служат
грани кристалла (рис.2). Однако в Г. используются также внеш. оптические
резонаторы или положит. обратная связь, основанная на распределённом отражении
света на периодич. оптич.
неоднородностях. Для
этого на поверхность волноводного слоя Г. наносится дифракц. решётка с периодом
(рис. 3), кратным
целому числу полуволн излучения в среде:
. Здесь - длина
волны лазерного излучения в вакууме, N - эффективный показатель преломления
волноводнои моды, т - порядок брэгговского отражения. Различают Г. с
рагпределённой обратной связью (РОС), когда световая волна взаимодействует с
решёткой в области усиления, и с распределённым брэгговским отражением (PBO),
когда решётка нанесена
на пассивную часть волноводнои структуры Г. РОС- и РБО-Г. характеризуются узкополосностью
(~0,1 нм) и высокой
температурной стабильностью
. Дифракц. решётка используется в РОС-Г. также для вывода излучения, что улучшает
направленность излучения и повышает его мощность. РБО-Г. могут быть сформированы
в едином технол. процессе с др. элементами интегральной оптики, базирующимися
на полупроводниковых волноводных гетероструктурах.
Г. осуществлён впервые
в СССР (1968), а затем в США (1969) на гетероструктуре GaAs-AlAs. Г. перекрыли
диапазон от жёлто-зелёной
области до неск. десятков мкм (1980). Твёрдые растворы GaxIn1-xASyP1-y,
изопериодические с подложкой GaPxAs1-x, позволили создать
самые коротковолновые инжекционные Г. (при Т~300К). Эти же твёрдые растворы,
изопериодические с подложкой InP, позволяют получать низкопороговые инжекционные
Г. для ~1 - 1,6
мкм (наиб. перспективного для волоконно-оптич. линий связи). Твёрдые растворы
InxGa1-xASySb1_y, изопериодические
с подложкой GaSb и AlSb. перспективны для
= 2-4 нм. Дальняя ИК-область (>5мкм)
осваивается с помощью твёрдых растворов PbSxSe1-xPbxS1-xTe.
Ж. И. Алферов, E. Л. Портной