Термоэмиссионный преобразователь (ТЭП) - устройство для прямого преобразования тепловой энергии плазмы в электрическую. ТЭП обычно
представляет собой диод, тепловая энергия подводится к катоду, а электрическая
выделяется на нагрузочном сопротивлении R0. Принцип действия
ТЭП поясняется рис. 1, где приведена потенц. диаграмма для электронов. Тепловая
энергия Qк, подводимая к катоду, отчасти расходуется
в зазоре ТЭП, отчасти выделяется в виде тепла Qa на аноде
и в виде полезной электрич. мощности в нагрузочном сопротивлении: P0=
U0I=[(cк - cа)/e- U]I.
Здесь cк и cа- работы выхода катода и анода
(cк>cа), U-падение напряжения в зазоре,
I-ток в цепи. Кпд ТЭП h = P0/Qк.
Для компенсации пространственного заряда электронов в зазор
ТЭП вводится легко ионизующийся газ, как правило, пары Cs. Контактная разность
потенциалов Dc/e = (cк - cа)/е создаётся за счёт разной степени покрытия цезием горячего катода
и холодного анода. По способу ионизации Cs различают ТЭП с поверхностной и с
объёмной ионизацией. В первом случае ионы Cs+ создаются, как правило,
за счёт поверхностной ионизации на горячем катоде. Во втором случае ионы
Cs+ образуются в объёме, где поджигается низковольтная дуга (HД).
Режимы с поверхностной ионизацией, в свою очередь, подразделяются на кнудсеновские,
когда длина свободного пробега электрона lе>>L - длины зазора, и диффузионные, когда le<<L.
Рис. 1. Потенциальная диаграмма
электронов в ТЭП в режиме низковольтной дуги: Fк и
Fa - уровни Ферми катода и анода; еjк
и еjа -падения напряжения в при-электродных ленгмюровских
слоях.
При рассмотрении режимов
с поверхностной ионизацией существенно, каково распределение потенциала на контакте
катод - плазма в условиях термодинамич. равновесия плазмы с поверхностью катода
(рис. 2). Здесь mк = kTкln[Ze/n(Tк)]
- абс. величина хим. потенциала плазмы при
температуре Тк катода; Фк -равновесный потенц.
барьер в ленгмюровском слое;
- равновесная концентрация плазмы при температуре Тк; Ze
= 2(2pmekT/h2)3/2; gi
= l и ga = 2 - статис-тич. суммы свободных электронов, ионов
и атомов; Na - концентрация атомов Cs в плазме. Оптим. режим
ТЭП реализуется при
. В режимах с поверхностной ионизацией ток прибора зависит от величины равновесной
концентрации п(Тк)электронов в прикатодной плазме.
При сравнительно малом давлении Cs (pCs~10-2 Top)
в кнуд-сеновском режиме, когда рассеяние электронов в зазоре отсутствует, макс.
плотность тока порядка хаотической:
. Однако, т. к. с уменьшением давления mк увеличивается,
для реализации больших значений n(Tк) и соответственно
большой мощности Р0~(1-10) Вт/см2 нужны высокие
температуры катода Tк>2000 К, что уменьшает ресурс работы катода.
Увеличение давления до величины pСs ~ 1 Тор позволяет понизить
Тк и увеличить срок его работы. При этом реализуется
диффузионный режим, когда плазма в приэлектродном слое находится примерно в
термодинамич. равновесии с катодом, а ток в зазоре переносится
за счёт диффузии электронов от горячего при-катодного конца плазмы к прианодному.
В диффузионном режиме, однако, ток и полезная мощность P0
существенно уменьшаются за счёт рассеяния электронов в плазме. Поэтому при pCs
>= 1 Тор предпочтительно работать в режиме с объёмной ионизацией Cs,
когда за счёт нек-рого увеличения напряжения U реализуется режим НД.
Рис. 2. Распределение потенциала
в прикатодном слое при термодинамическом равновесии плазмы с катодом (диффузионный
режим): а - для cк<mк; б-для
cн>mк.
В режиме НД за счёт образования
достаточно большого прикатодного падения напряжения fк
(рис. 3), препятствующего возврату плазменных электронов на катод, снимаемый
ток близок к эфф. току эмиссии: Isэфф= Isехр(
-ejm/kTк); где jm
- потенциал виртуального катода, к-рый возникает в условиях, когда cк
< mк. Для этих условий типичная вольт-амперная характеристика (BAX) ТЭП приведена на рис. 4; здесь AB-диффузионная ветвь; ВС - неустойчивый участок BAX, соответствующий поджигу
НД; CD - участок шнурования тока; DE-участок виртуального
катода (режим с объёмной ионизацией, рис. 3). Участок EF соответствует
монотонному распределению потенциала в прикатодном ленгмюровском слое (рис.
1). Точка E, соответствующая исчезновению виртуального катода, является
рабочей точкой ТЭП. Ионизация Cs в режиме НД обеспечивается обычно разогретыми
электронами плазмы (Tе0,2
- 0,3 эВ), имеющими максвеллов-ское распределение. В режиме НД осн. потери энергии
в зазоре связаны с разогревом электронов плазмы.
Рис. 3. Распределение
потенциала в низковольтной дуге в режиме с виртуальным катодом.
Классифицировать ТЭП можно
по величине барьерного индекса UBU+ca/e. K т. н. 1-му поколению ТЭП отнесены созданные в 1970-х гг. преобразователи
с UB2
B. К ТЭП 2-го и 3-го поколений, возможность создания к-рых исследуется в 1990-х
гг., относят преобразователи с Uв1,5
В и UB1
B. При U1,5
В ТЭП становится экономически
выгодным в качестве высокотемпературной надставки в промышл. энергетич. установках.
Исследуются пути уменьшения UB за счёт уменьшения U и
ca. Основные предлагаемые способы уменьшения U связаны
с переходом к механизмам ионизации, не использующим разогрев тепловых электронов.
Это - ТЭП со вспомогат. разрядом, в частности трёхэлектродный ТЭП с инертным
газом-наполнителем; ТЭП с импульсной внеш. ионизацией и с разделением во времени
процесса генерации ионов и рабочей стадии ТЭП, в частности азотно-цезиевые ТЭП
с накоплением энергии импульса в колебаниях молекул азота; триод с эмиттером
ионов; ТЭП с ионизацией УФ-излучением или продуктами распада радиоизотопов и
др. Рассматривается увеличение эфф. эмиссии катода за счёт развития его поверхности.
Исследуются способы уменьшения ca путём применения электродов
со сложными поверхностными покрытиями. Большое внимание уделяется цезиевым триодам
с сеточным управлением тока, используемым для непосредств. преобразования пост.
напряжения, генерируемого ТЭП, в перем. напряжение.
Рис. 4. Вольт-амперная характеристика ТЭП в диффузионном (AB)и дуговом (CDEF)режимах.
Ф. Г. Бакшт