Фоторезисты - материалы органич. и неорганич. происхождения, чувствительные к оптич. излучению видимого
или УФ-диапазона; применяются в фотолитографии для получения рельефного
покрытия заданной топологии. Формирование в слое Ф., нанесённого на к--л. подложку,
рельефных областей заданной конфигурации происходит в результате его локального
экспонирования и последующего проявления. При локальном экспонировании в Ф.
идут физ--хим. превращения с изменением размера, структуры или полярности молекул,
ведущие к изменению свойств покрытий и возможности удаления при проявлении облучённых
или необлучённых участков. Если в результате экспонирования хорошо растворимыми
становятся облучённые участки и они удаляются в процессе проявления, то Ф. наз.
позитивным; если в процессе проявления удаляются необлучённые участки,
Ф. наз. негативным. Полученное таким способом рельефное покрытие служит
защитой нижележащего рабочего слоя от воздействия травлений.
Ф. используют в виде жидких
композиций, к-рые наносят на рабочий слой с помощью центрифуг, валков или пульверизаторов
и формируют плёнки толщиной от десятых долей до десятков микрон. Большей разрешающей
способностью обладают т. н. вакуумные позитивные и негативные Ф., к-рые представляют
собой слои мин. толщины, полученные методом вакуумного напыления. Кроме того,
применяются т.н. сухие плёночные Ф.- пластичные светочувствит. слои толщиной
10-100 мкм, заключённые между лавсановой плёнкой - основой - и защитной полиэтиленовой
плёнкой. Слои наносятся на подложку накаткой.
В качестве жидких позитивных
Ф. используют составы на основе светочувствит. производных о-диазокетонов
и плёнкообразующих фенольных и др. смол. Из числа негативных жидких Ф.- на основе
сенсибилизированного поливинилциннамата, поливинилового спирта и полиизо-преновых
циклокаучуков со светочувствит. диазидами. Вакуумные Ф. представляют собой слои
красителей, цин-наматов, халькогенидных стёкол и др. В сухих плёночных Ф. в
качестве светочувствит. слоя применяют сенсибилизированные фотополимеризующиеся
композиции с акрилат-ными мономерами и олигомерами, к-рые резко изменяют свою
растворимость под действием УФ- и видимого света вследствие образования пространственно
сшитой полимерной структуры.
Ф. чувствительны к излучению
в широком спектральном диапазоне УФ- и видимого излучений, но особенно широко
используется УФ-излучение ртутных ламп и эксимерных лазеров, что наиб. приемлемо
в пром. условиях производства интегральных схем для микроэлектроники.
В зависимости от типа Ф. их светочувствительность находится в пределах 2-20
см2/Дж, а разрешающая способность - 100-1000 мм-1. Микродефектность
(число невытравленных точек на проявленных участках после проявления) для лучших
Ф. достигает 0,05 см-2.
Жидкие и вакуумные Ф. используют в осн. в микроэлектронике для создания интегральных схем. Кроме того, жидкие Ф. применяют в фототехнологии изготовления элементов голограммной, а также элементов и схем интегральной оптики. Сухие плёночные Ф. используют для изготовления печатных плат.
|
|
 |
